[데일리인천=편집국] 인하대 대학원 화학·화학공학융합학과 석박사통합과정 전다희 학생(지도교수 백인환)이 교육부와 한국연구재단의 ‘2026년도 이공분야 박사과정생 연구장려금 지원사업’에 선정됐다. 전 학생은 2026년 9월부터 2028년 8월까지 2년간 연구비 총 5천만 원을 지원받아 반도체 배선 성능 향상 연구를 이어간다.

전 학생은 2024년 ‘석사과정생 연구장려금 지원사업’에도 선정된 바 있다. 석사과정에 이어 박사과정에서도 연구비를 확보했다. 이 기간 국내와 미국에 관련 기술 특허를 출원했고, SCI급 논문 5편에 저자로 참여했다. 주저자로 참여한 논문 2편은 심사 중이다.

박사과정생 연구장려금 지원사업은 학위논문과 연계된 창의적이고 도전적인 연구를 독립적으로 수행하도록 돕는 사업이다. 연구의 독창성과 학술적 가치, 연구자의 수행 역량 등을 종합 평가해 지원 대상을 정한다.

전 학생의 선정 과제는 ‘차세대 BEOL 인터커넥트 성능 향상을 위한 금속-금속 영역 선택적 원자층 증착 기술 개발’이다. 반도체 내부 소자를 잇는 배선 공정에서 원하는 금속 표면에만 얇은 막을 형성해 배선 저항과 신뢰성 문제를 개선하는 것이 목표다. 원자층 증착은 박막의 두께와 조성을 원자층 수준으로 정밀하게 제어하는 기술이다.

전 학생은 2024년 석사과정 지원사업에서 ‘배선 성능 향상을 위한 RuO₂ 영역 선택적 원자층 증착법 개발’ 과제를 수행했다. 재료 간 원자 확산을 막는 막을 필요한 영역에만 성장시키는 기술의 기반을 마련했다. 이번에는 서로 다른 금속 표면 가운데 원하는 표면에만 박막을 형성하는 기술로 연구 범위를 넓힌다. 그동안 루테늄(Ru) 박막 공정을 중심으로 저항이 낮은 배선, DRAM 전극·커패시터, 트랜지스터 등 차세대 소자·공정을 연구해 왔다.

전 학생은 “루테늄 박막을 원하는 재료에만 선택적으로 성장시키는 공정을 개발하고 실제 배선 구조에 적용해 배선 저항과 신뢰성을 함께 개선하는 것이 목표”라며 “석사과정에서 시작한 연구를 박사과정까지 이어가 반도체 미세화의 한계를 극복하는 데 기여할 공정 기술을 학위논문으로 완성하겠다”고 말했다.